磁控溅射 中的加热温控电源有两种用途：
真空室内部除气烘烤
首次使用或长时间未使用，以及真空室开门时间过长--比如几天。在进行镀膜前，为了有很好的本底真空，应该对真空室进行烘烤除气。让真空室内的真空达到较好水平
经过长时间镀膜后，本底真空不能达到要求，可以对真空室进行烘烤，除气，提高本底真空。
其他需要内部烘烤的情况
在镀膜前对基片进行预热
基片放气较大，为了保证镀膜质量，先对基片进行预热除气
基片的镀膜需要一个较高的起始温度，可先对基片进行加热，达到温度后，开始镀膜。镀膜过程中，一般不需要加热。
有的膜需要就地退火，在镀膜完成后。加热到需要的温度后按工艺保温和降温。
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