I=(60ρd S)/(100Kηt)=R/t
I:总电流, 安培(A)
ρ:镀层金属密度, 克/立方厘米(g/cm3)
d:镀层厚度, 微米(μm)
S:总面积, 平方分米(dm2)
K:电化当量, 克·安时(g/(A·h))
η:阴极电流效率, %
t: 时间, 分(min)
理论厚度Z=2.448*C*T*M/ND,(C:表示电流密度,T:表示电镀时间,M:表示原子量,N:表示电荷数,D:密度)。单位:密度的单位是G/CM3,时间单位是分钟,厚度单位是1/40微米
也有直接算好的参数:
金的理论厚度:24.98CT,
酸铜理论厚度:8.74CT,
碱铜理论厚度:17.48CT,
银的理论厚度:25.15CT,
钯镍的理论厚度:10.42CT,
锡的理论厚度:19.91CT,
镍的理论厚度:8.07CT,
电流密度只和你的药水的电流密度上限值及电镀的时间有关系,且要注意是理论的,由于产品有结构的特殊性,还需要现场试样才能最终确定电流密度和产速。
你已知了电镀电流效率和电镀的面积,以及镀层厚度,应该是求总电流该打多少吧,以及电镀时间才对吧;工件电流密度是给定的已知数啊。