生产半导体用化工原料检验标准

2025-01-02 11:13:39
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回答1:

在半导体工艺中,硫酸常用于去除光刻胶和配制洗液等。清洗中主要利用其强酸性、氧化性来解脱吸附在硅片表面的金属和无机物。浓硫酸不仅能与金属活动表中氢以前的金属作用,而且在加热条件下还能与金属活动表中氢以后的金属铜、汞、银等金属发生氧化还原反应。

如果有还原性物质,硫酸的氧化性就会下降,清洗不彻底吧