mos管的宽长比是什么

mos管没有宽长比，mos管的VGS越负(绝对值越大)，沟道的导通电阻越小，电流的数值越大。

MOS晶体管可分为N沟道与P沟道两大类， P沟道硅MOS场效应晶体管在N型硅衬底上有两个P+区，分别叫做源极和漏极，两极之间不通导，源极上加有足够的正电压(栅极接地)时，栅极下的N型硅表面呈现P型反型层，成为连接源极和漏极的沟道。

改变栅压可以改变沟道中的空穴密度，从而改变沟道的电阻。这种MOS场效应晶体管称为P沟道增强型场效应晶体管。如果N型硅衬底表面不加栅压就已存在P型反型层沟道，加上适当的偏压，可使沟道的电阻增大或减小。这样的MOS场效应晶体管称为P沟道耗尽型场效应晶体管。

扩展资料：

PMOS的特性，Vgs小于一定的值就会导通，适合用于源极接VCC时的情况（高端驱动）。需要注意的是，Vgs指的是栅极G与源极S的电压，即栅极低于电源一定电压就导通，而非相对于地的电压。但是因为PMOS导通内阻比较大，所以只适用低功率的情况。

NMOS的特性，Vgs大于一定的值就会导通，适合用于源极接地时的情况（低端驱动），只要栅极电压大于参数手册中给定的Vgs就可以了，漏极D接电源，源极S接地。

需要注意的是Vgs指的是栅极G与源极S的压差，所以当NMOS作为高端驱动时候，当漏极D与源极S导通时，漏极D与源极S电势相等，那么栅极G必须高于源极S与漏极D电压，漏极D与源极S才能继续导通。

参考资料来源：百度百科-mos管

参考资料来源：百度百科-Mos管开关电路

　　宽长比是 MOS 管的导电沟道的宽与长的比，宽长比越大，MOS 管的 Id 就越大，也就是宽长比与 Id 成正比。
　　如果只是用来做驱动的话，根据负载能力确定宽长比。如果前级的驱动能力较小，同时有要求较高的速度，建议该级长和宽取小点。如果是用来驱动后一级电路，宽长比主要看后级负载大小，负载大，宽长比大，比如说后面有很长的数据线或者接了很多的负载。一般来说，nmos管的宽长比为pmos的1/3。
　　mos管是金属(metal)—氧化物(oxid)—半导体(semiconductor)场效应晶体管，或者称是金属—绝缘体(insulator)—半导体。MOS管的source和drain是可以对调的，他们都是在P型backgate中形成的N型区。在多数情况下，这个两个区是一样的，即使两端对调也不会影响器件的性能。这样的器件被认为是对称的。

宽长比是 MOS 管的导电沟道的宽与长的比，宽长比越大，MOS 管的 Id 就越大，也就是宽长比与 Id 成正比。具体公式可以去查书。

电流镜的 Id 比例是 1：2，那么两个 MOS 管的宽长比的比（注意是两个宽长比的比）应该也是 1：2，因为如上所述 Id 与宽长比成正比。

所以如果 MOS1 的宽长比为 10， 那么 MOS2 的宽长比应该为 20，以此类推。

呵呵，来看看你的提问。不过，我也不知道宽长比是什么啊，百度搜搜吧。我也是第四版的，现在考试都考完了，自己想把这门课学精点
宽长比应该是导电沟道的宽长比，刚才我去查了下。顺便来看看我这个问题哦：
http://zhidao.baidu.com/question/131578815.html