MOSFET-P和MOSFET-N的区别:
1、MOSFET-P是P沟道,MOSFET-N是N沟道;
2、为了能正常工作,NMOS管外加的Vds必须是正值,开启电压VT也必须是正值,实际电流方向为流入漏极。
而与NMOS不同,PMOS管外加的Vds必须是负值,开启电压VT也必须是负值,实际电流方向为流出漏极。
N沟道和P沟道MOSFET分为增强型和耗尽型。
如图为增强型N沟道、P沟道MOSFET。
P MOSFET除了代表衬底的B的箭头方向外,其他部分均与NMOS相同。
N沟道增加型MOSFET管沟道产生的条件为:VGS 大于等于 VT
可变电阻区与饱和区的界线为 VDS= VGS-VT。
在可变电阻区内:VGS >=VT, VDS <= VGS-VT。
在饱和区内: VGS>=VT, VDS >= VGS-VT。
P沟道增加型MOSFET管沟道产生的条件为:VGS 小于等于 VT
可变电阻区与饱和区的界线为 VDS= VGS-VT。
在可变电阻区内:VGS <=VT, VDS >= VGS-VT。
在饱和区内: VGS<=VT, VDS <= VGS-VT。
MOSFET-P和MOSFET-N的区别:
1、MOSFET-P是P沟道,MOSFET-N是N沟道;
2、为了能正常工作,NMOS管外加的Vds必须是正值,开启电压VT也必须是正值,实际电流方向为流入漏极。
而与NMOS不同,PMOS管外加的Vds必须是负值,开启电压VT也必须是负值,实际电流方向为流出漏极。
N沟道和P沟道MOSFET分为增强型和耗尽型。
如图为增强型N沟道、P沟道MOSFET。
P MOSFET除了代表衬底的B的箭头方向外,其他部分均与NMOS相同。
N沟道增加型MOSFET管沟道产生的条件为:VGS 大于等于 VT
可变电阻区与饱和区的界线为 VDS= VGS-VT。
在可变电阻区内:VGS >=VT, VDS <= VGS-VT。
在饱和区内:VGS>=VT, VDS >= VGS-VT。
P沟道增加型MOSFET管沟道产生的条件为:VGS 小于等于 VT
可变电阻区与饱和区的界线为 VDS= VGS-VT。
在可变电阻区内:VGS <=VT, VDS >= VGS-VT。
在饱和区内:VGS<=VT, VDS <= VGS-VT。
一个是P沟道,一个是N沟道.
NMOS要在GS为正向电压是导通..PMOS在GS为负电压时导通.