1、理论计算公式:Q = I × t I = j × S \x0d\x0a\x0d\x0a Q:表示电量,反应在PCB上为镀铜厚度。 \x0d\x0a I:表示电镀所使用的电流,单位为:A(安培)。 \x0d\x0a t:表示电镀所需要的时间,单位为:min(分钟)。 \x0d\x0a j:表示电流密度,指每平方英尺的单位面积上通过多少安培的电流,\x0d\x0a 单位为:ASF(A/ft2)。 \x0d\x0a S:表示受镀面积,单位为:ft2(平方英尺)。 \x0d\x0a\x0d\x0a2、实践计算公式:\x0d\x0a\x0d\x0a A、铜层厚的计算方法:\x0d\x0a 镀层厚度(um)= 电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率×0.0202\x0d\x0a\x0d\x0a B、镍层厚度的计算方法:\x0d\x0a 镀层厚度(um)= 电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率×0.0182\x0d\x0a\x0d\x0a C、锡层的计算方法\x0d\x0a 镀层厚度(um)= 电流密度(ASF)×电镀时间(min)×电镀效率×0.0456\x0d\x0a\x0d\x0a3、以上计算公司仅供参考,每一家的电镀能力都会不同,所以应以本司的实际电镀水平为准。\x0d\x0a4、楼主提及的A/DM是指ASD,即安培/平方分米(A/DM2)。