半导体 PN结在现实中是怎么制作的呢?

2024-12-25 03:45:33
推荐回答(2个)
回答1:

全部先弄成P或N区,再把这之中的一部分掺杂 基本工艺是: 氧化(制作掩膜)、光刻(刻出扩散窗口)、高温扩散(掺杂), 也可用直接的离子注入等方法实现掺杂。

离开这一行业已很久了,8130即我原服务单位

回答2:

融化硅,提纯,切成硅片,再就是加工技术了