真空磁控溅射为什么必须在真空环境?具体是个什么原理?可以不可以用通俗的话表达出来?谢谢

2024-12-25 10:23:13
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回答1:

溅射过程是通过电能,使气体的离子(可以理解为为气体颗粒)轰击靶材(一般是金属溅射物),就像砖头砸土墙,土墙的部分原子溅射出来,落在所要镀膜的基体上的过程。
如果气体太多,气体离子在运行到靶材的过程中,很容易跟路程中的其他气体离子或分子碰撞,这样就不能加速,也溅射不出靶材原子来。所以需要真空状态。
而如果气体太少,气体分子不能成为离子,没有很多可以轰击靶材,所以也不行。
只能选择中间值,有足够的气体离子可以轰击靶材,而在轰击过程中,不至于因为气体太多而相互碰撞致使失去太多的能量的气体量。
所以必须在较为恒定的真空状态下。此状态根据气体分子直径和分子自由程计算。一般在0.2-0.5Pa之间。
不知道这么说是不是通俗?