1、防止有电流从衬底流向流向源极和导电沟道,这里是防止衬底与源极的PN结导通,导通了的话,就会有电流从衬底的低掺杂的P型硅片流向源极的高掺杂N+区。
2、将衬底与源极相连接,两者的电位就相同了,没有正向压降,两者间的PN结就不会导通,从而就不会有电流流过PN结。
3、也可以不连接衬底与源极,但是要保证衬—源之间电压U(BS)使衬—源之间PN结反向偏置。这样也不会有电流从衬底经过PN结流向源极。
你自己再把书仔仔细细看看,这问题问老师,估计会挨骂。
http://zhidao.baidu.com/question/491759966.html
以NMOS为例:
当NMOS直接做在P型衬底上时,为了防止衬底与源漏的PN结正偏导通,衬底要接最低电位,对单个MOS而言,衬底和源可以直接相连;但如果是在集成电路里面,所有MOS管的衬底都接了最低电位,但源端可能不是接最低电位,这时源和衬底就是不连一起的,这时就会出现衬偏效应,导致阈值电压飘移,变得比衬源相连时更大,所以其实我们是希望衬源相连的,只是有时候没法这么做。
在现在双阱CMOS工艺中,NMOS做在P型阱里面,阱就相当于NMOS的衬底,由于阱与阱之间是隔离的,所以电位可以不相同,这时,所有NMOS的衬源就可以直接相接了