呵呵,这个问题主要有两个原因:
1. 发射区是重掺杂,其掺杂浓度远远高于基区的掺杂浓度,所以发射结正偏时,发射区向基区注入的电子数量是巨大的
2. (非常关键的一点)基区的宽度足够小 ,远远小于非平衡少子(电子)在基区的扩散长度。(而这恰恰是我们希望的,通常在制作双极型晶体管的时候,就是要把基区的宽度做小)。基区宽度小,意味着到达基区的非平衡少子 需要 渡越的距离就越短,就更容易到达集电区的边缘。(可以理解为,还没来得及复合,就到达集电区边缘了)
如果把基区宽度做得很宽很宽,远远大于非平衡少子(电子)在基区的扩散长度, 那这就造成 发射区注入基区的电子全部在基区被复合掉,无法到达集电结的边缘,这些电子全部成为基极电流的贡献了。 而集电结是反偏,只有很小很小的PN结反向饱和电流。 事实上,这也就不是双极型晶体管了, 顶多就算是 两个背靠背反向串联的PN结, 起不到电流放大的作用。
希望我的回答对你有帮助,全是一字一字敲上去的,呵呵,望采纳
因为基区非常薄,掺杂浓度低(也就是说多数载流子很少),集电极大量电子涌入,只有极少一部分才能复合掉。 上面两位的回答都很专业,希望我的回答你能看懂。
因为基区的掺杂浓度很小,载流子数目也非常少。基极电流的作用,是减少基—集之间的PN结在基区一侧的载流子,使基-集阻挡电场变弱,以便从发射极进入的自由电子可以穿过基-集结进入集电极。
电子并非不想在基区与空穴复合,只是因为基区的空穴太少了无法复合那么多的自由电子而已。你举的例子有个问题,也就是HFE值只有4/3倍的三极管是没有实用价值的,某个瞬间射极进入7个自由电子的话,可能同时在基区连1个空穴都找不到。它们只好在基-集电场的作用下反向穿过PN结进入集电区。
dian ya